一种COP膜材光刻工艺分析
发布时间:2021年11月15日 点击数:1845
1 设备工艺
微米光刻装备是柔性触摸屏生产关键设备,其能满足COP、CPI等材料性能的需要,也能满足量产，银浆光刻工艺需要，但其激光器波段使用要求非常高。本文基于一种镭射激光设备，对COP材料进行光刻工艺分析探讨.
2 工艺技术分析
2.1 银浆光刻
2.1.1银浆光刻试验
印刷电子技术由印刷技术与电子技术结合而生,并随着显示器及触摸屏产业的不断壮大而蓬勃发展。光阻剂(photoresist)及其复合材料作为印刷电子技术的关键材料，百富策略白菜网于多个电子制造领域。未来随着精度、分辨率、集成化、图型的复杂度等要求越来越高,高精度的光刻材料及相应黄光工艺,将成为促进我国电子产业发展的关键因素[1]。本文基于一种COP基材丝印银浆[2]，采用UV,IR不同波段进行镭射光刻[3,4]。图1表示UV光刻银浆图，图2表示IR光刻银浆图。从结果得知，IR光刻比UV光刻效果好。
2.1.2银浆附着力分析
从光刻银浆得知，UV波段无法满足要求，其中对IR光刻波段进行附着力分析，从显微镜下观察，其结果如图3所示，满足其生产工艺要求。
2.2 可视区光刻
如图4所示，为采用走线16*16um光刻线路图，采用UV波段，观察得知，线路正常，无其它不良，能满足其工艺要求。
3 结果与讨论
柔性触控屏产业将会高速发展，作为一种主要基材COP材料，其中光刻在生产过种中为主要工序，本文基于一种COP材料，从而对光刻银浆与可视区进行了分析探讨，结果显示，银浆走线采用银浆走线16*16um，可视区采用走线16*16um，分别使用IR与UV波段，可以满足其工艺要求。同时，进行方案优化与基材改善，相应可以提高量产良率。
